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氫氧化鈉高剪切研磨均質(zhì)分散機,采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先J的技術(shù)與創(chuàng)X的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.
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產(chǎn)品名稱:氫氧化鈉高剪切研磨均質(zhì)分散機,透明質(zhì)酸粉末氫氧化鈉溶液交聯(lián)劑均勻混合研磨均質(zhì)分散機,硅凝膠膠體高速剪切膠體磨,凍膠研磨均質(zhì)分散機,凝膠粉碎機,解決粘度顆粒問題,凝膠膠體磨,凝膠高速膠體磨,凝膠研磨機
高剪切膠體磨是將物料通過過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
凝膠:亦稱凍膠,是溶膠失去流動性后,一種富含液體的半固態(tài)物質(zhì),其中液體含量有時可高達99.5%,固體粒子則呈連續(xù)的網(wǎng)絡(luò)體。它是指膠體顆粒或高聚物分子相互交聯(lián),空間網(wǎng)絡(luò)狀結(jié)構(gòu)不斷發(fā)展,zui終使得溶膠液逐步失去流動性,在網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的孔隙中充滿液體的非流動半固態(tài)的分散體系,它是含有亞微米孔和聚合鏈的相互連接的堅實的網(wǎng)絡(luò)。
溶膠—凝膠技術(shù)是溶膠的凝膠化過程,即液體介質(zhì)中的基本單元粒子發(fā)展為三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)——凝膠的過程。凝膠與溶膠是兩種互有的狀態(tài)。乳膠冷卻后即可得到凝膠;加電解質(zhì)于懸膠后也可得到凝膠。凝膠可能具有觸變性:在振搖、超聲波或其他能產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力的特定作用下,凝膠能轉(zhuǎn)化為溶膠。溶膠向凝膠轉(zhuǎn)變過程主要是溶膠粒子聚集成鍵的聚合過程。上述作用一經(jīng)停止,則凝膠又恢復(fù)原狀,凝膠和溶膠也可共存,組成一個更為復(fù)雜的膠態(tài)體系。凝膠可分為易脹型(如明膠)和非易脹型(如硅膠)兩類;凝膠義分為彈性凝膠和脆性凝膠。
使用特殊的“膠體磨”將粗分散程度的懸浮液通過研磨而制成溶膠。實驗室常用“膠溶法”將固體分散而制備溶膠。以無機物作為源物質(zhì),在溶液中進行化學(xué)反應(yīng)而生成固體沉淀物,新生成的固體沉淀物在適當(dāng)?shù)臈l件下能重新分散而達到膠體分散程度的現(xiàn)象稱為膠溶作用。再用某種方法促使膠體失去流動性,變成彈性固體狀態(tài)的凝膠體。這種方法也可以稱為“溶液-溶膠-凝膠”法。
優(yōu)點:是化學(xué)過程比較簡單、原料成本低、燒結(jié)后無有機殘渣;
缺點:是需要對膠體沉淀物長時間連續(xù)清洗后才能制得凝膠,因而制備周期比較長、可能會造成一定的原料損失。
目前,國內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的研磨方式主要采取一步法的3000轉(zhuǎn)膠體磨,能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點,有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后,研磨時根本形成不了剪切力,從而無法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識.許多生產(chǎn)商并未意識到分散的重要性;② 不知道對zui終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評價,
膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。
GMSD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMSD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達到18000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
【炭黑研磨分散機的結(jié)構(gòu)】
GMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):
研磨式分散機是由錐體磨(膠體磨),分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
D一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。
上海SGN/思峻GMSD2000研磨分散機由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
優(yōu)勢:
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先J的技術(shù)與創(chuàng)X的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,高線速度的吸料式葉輪提供很強的切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封,*上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用國W先J的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
六、SGN/思峻二氧化硅(白炭黑)型號參數(shù)表:
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz
電機選配件:PTC 熱保護、降噪型
均質(zhì)機材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti
均質(zhì)機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
均質(zhì)機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
乳化機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
分散均質(zhì)機高剪切分散均質(zhì)機,實驗室均質(zhì)機
應(yīng)用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥(除草劑、殺蟲劑)。
GMSD2000 研磨分散機參數(shù)表
型號 | GMSD2000/4 |
處理量: | 0-400L/H(水) |
功率 | 4kw |
電機轉(zhuǎn)速 | 3000rpm |
傳動轉(zhuǎn)速 | 7300rpm(通過變頻可10500rpm) |
材質(zhì) | 與物料接觸均為316L不銹鋼 |
出口類型 | 衛(wèi)生級卡箍聯(lián)接 |
出口尺寸 | DN15 |
進口類型 | 衛(wèi)生級卡箍聯(lián)接 |
進口尺寸 | DN25 |
溫度 | 120℃ |
壓力 | 2.5bar |
分散盤 | 約為55mm |
整機重量 | 約為55kg |
設(shè)備尺寸 | 450*350*750mm |
氫氧化鈉高剪切研磨均質(zhì)分散機,透明質(zhì)酸粉末氫氧化鈉溶液交聯(lián)劑均勻混合研磨均質(zhì)分散機,硅凝膠膠體高速剪切膠體磨,凍膠研磨均質(zhì)分散機,凝膠粉碎機,解決粘度顆粒問題
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